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Automatic Thin film Measurement station - measuring and mapping system with microscope and robot wafer handling

Automatic Thin film Measurement station - measuring and mapping system with microscope and robot wafer handling

Vollautomatische MessStation, Schichtdicken Messung, Wafer Mapping 3D. Schichten 50nm und ca. 70µm. Faser- Spektrometer (Messprinzip: Weisslicht Reflektometrie, Spektralreflektometer, spektrale Auswertung des reflektierten Lichts )
 
Art.No.:MCS1000-TF

ProMicron
24 Bachmühlweg
74366 Kirchheim /Neckar

Telephone: +49 7143 - 40560
Fax: +49 7143 - 405629
Email: info@promicron.de

The measuring station that sets new standards:
  • Fully automated thin-film mapping
  • Accurate and efficient
  • High throughput
  • Simultaneous measurements
  • Refractive index measurement
  • Programmable materials catalog
  • 2D/3D Mapping
  • Motorized high-speed xy-stage
  • Miniature fibre-spectrometer, no moving parts
  • Wafer transport: fast, secure and free of contamination
  • Modular design
  • High reproducibility
  • 400-800 nm spectral scope
  • smallest size of the measuring spot 4µm
  • Layer thickness map in 2D and 3D
  • Automatic high-performance microscope
  • High precision in x/y positioning
  • Real time laser auto-focus
  • Wafer size up to 200mm diameter
  • Compatible with clean room class 1
  • Simple operation
  • Very reliable
Optional features:
  • Wafer inspection and defect review
  • CD measurement
  • White light interference surface metrology
  • SECS-GEM interface
 
Die Messstation, die neue Standards setzt:
  • Vollautomatisch
  • Präzise und effizient
  • Hoher Durchsatz
  • Simultane Messungen
  • Brechungskoeffizientenmessung
  • Riesiger und erweiterbarer Materialkatalog
  • 2D/3D Mapping
  • Motorisierter Kreuztisch
  • Faser-Miniatur-Spektrometer ohne bewegte Teile
  • Wafer Transport: schnell, sicher und kontaminationsfrei
  • Modularer Aufbau
  • Hohe Reproduzierbarkeit
  • 400-800 nm spektrale Bandbreite
  • Kleinste Größe des Messpunktes 4µm
  • Schichtdickenverteilung in 2D und 3D
  • Automatisches Hochleistungsmikroskop
  • Hohe Präzision bei x/y Positionierung
  • Echtzeit Laser Autofokus
  • Wafer Größe von 100mm bis 200mm dm
  • Reinraumklasse 1 kompatibel
  • Einfache Bedienung
  • Hohe Verlässlichkeit
Optionale Funktionen:
  • Wafer inspection und defect review
  • Strukturbreitenmessung
  • Weißlichtinterferometrie Surface Metrology
  • SECS-GEM Interface
  
thinfilm measurement screen mcs software              Ergoplan with Nikon waferhandling
 
 
Areas of applications:
 
Wafer Industry
  • Photoresists
  • Oxides
  • Nitrides
Surface coatings
  • Anti-reflection coatings
  • Filters, filter layers
  • Protective layers
  • DLC diamond like carbon
Display production
  • Cell Gap
  • Polyamide
  • ITO layers
 
Anwendungsgebiete:
 
Halbleiterfertigung
  • Photolacke
  • Oxide
  • Nitride
Oberflächenbeschichtungen, Coatings
  • Antireflexschichten
  • Filter; Filterschichten
  • Schutzschichten
  • DLC diamond like carbon
 Displayfertigung
  • Cell Gap
  • Polimide
  • ITO Schichten  
 mcs02_detail-l-3.jpg  metrology workstation top view
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User interface of  Thin Film Measurement | Oberfläche der Schichtdickenmessung
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